Bahan Kimia Tekstil Penghisap Lembapan untuk Kemasan Fabrik Poliester Kapas

Ciri-ciri Bahan Kimia Tekstil Penghisap Lembapan:

Pepejal Tinggi: Bahan Kimia Tekstil Penghisap Lembapan ialah formulasi pepejal tinggi yang memastikan hasil yang lebih baik dalam proses permohonan dan mengurangkan kuantiti penggunaan.

serba boleh: bahan kimia ini bukan sahaja mempunyai sifat wicking yang sangat baik tetapi boleh digabungkan dalam rawatan anti-statik merentasi pelbagai jenis fabrik walaupun selepas rawatan.

Kecekapan dan ekonomi yang tinggi: Dos yang rendah, dan keberkesanan kos produk yang tinggi adalah sesuai untuk pengeluaran besar-besaran dan boleh mengurangkan kos pengeluaran dengan banyak.

Kemasan hidrofilik: Sebagai ejen kemasan hidrofilik, Bahan Kimia Tekstil Penghilang Lembapan memberikan sifat pengurusan lembapan yang sangat baik untuk keselesaan fabrik.

Mesra Alam: Bahan kimia yang digunakan adalah mesra alam dan mempunyai kesan alam sekitar yang rendah apabila digunakan.

Aplikasi Bahan Kimia Tekstil Penghisap Lembapan:

Kemasan Penghisap Lembapan: Digunakan dalam kemasan untuk fabrik kapas, poliester dan campuran untuk meningkatkan penyerap lembapan, yang biasa digunakan dalam pakaian aktif, pakaian sukan dan pakaian luar.

Rawatan Antistatik: Rawatan ini digunakan pada gentian sintetik seperti poliester dan membantu mengurangkan pengumpulan statik elektrik, sekali gus meningkatkan keselesaan haus dan kebolehservisan dalam fabrik yang digunakan dalam elektronik, tekstil perubatan dan pakaian pejabat.

Tekstil Rumah: Tuala, linen katil dan tekstil rumah yang lain dirawat dengan ini untuk meningkatkan penyerapan lembapan supaya fabrik kekal segar dan kering selepas dicuci.

Rawatan Fabrik Berfungsi: Rawatan ini sesuai untuk tekstil berfungsi, terutamanya yang perlu menguruskan kelembapan badan, seperti yang digunakan dalam peralatan luaran, pakaian tidur dan fabrik prestasi.

Tekstil Industri: Digunakan dalam tekstil industri, seperti pakaian kerja dan pakaian pelindung, untuk pengurusan lembapan yang lebih baik dan untuk mengurangkan pembentukan statik dalam persekitaran yang kedua-duanya kritikal.